新規データ(窒化チタン薄膜、アルミナ薄膜、透明導電膜)公開報告2011年11月21日

e-Therm2010の講演発表からセレクトされた論文をJapanese Journal of Applied Physicsの特集号として発刊いたしました。本データは特集号に掲載された「Development of Network Database System for Thermophysical Property Data of Thin Films」のもととなったものをデータベースとして公開いたしました。以下、データの概要です。

<窒化チタン薄膜>
合成石英基板上に反応性DCマグネトロンスパッタリング法で成膜された窒化チタン(TiN)単層膜(膜厚681nm)に関するデータです。ナノ秒サーモリフレクタンス法で測定された薄膜熱拡散率、測定から得られる温度履歴曲線、解析式によるフィッティング結果として得られる熱拡散時間等熱物性値を算出する過程で使用するデータまで収録しています。窒化チタン(TiN)薄膜の光学特性として、反射率(Reflectivity)、消衰係数(extinction coefficient)、屈折率(Refractive index)、吸収係数(absorption coefficient)を公開しています。材料情報として、成膜時のパラメーターに加えて、RBS(ラザフォード後方散乱,Rutherford back scattering)スペクトル、XRD(X線回折,X-Ray Diffraction)スペクトルの実測データを公開しています。
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<アルミナ薄膜>
溶融石英基板上にRFマグネトロンスパッタリング法で成膜されたアモルファスアルミナ(膜厚0.5-100nm)に関する物性データを公開しています。ピコ秒サーモリフレクタンス法で熱物性値を測定する際、測定試料は透明なアルミナ薄膜の両側を反射膜(モリブデン薄膜)コートしているため、本データベースでも多層(3層)薄膜試料として材料を分類し、公開しています。物性データとして、アルミナとモリブデン薄膜界面の界面熱抵抗およびアルミナ薄膜の熱拡散率を公開しています。
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<ITO薄膜>
溶融石英基板上にDCマグネトロンスパッタリング法で成膜されたITO薄膜(膜厚200nm)に関する物性データです。成膜時の酸素流量比を変化させた膜について、サーモリフレクタンス法によって測定された熱拡散率(体積比熱容量を使って熱伝導率まで変換したデータも有)、4端子法で計測された電気抵抗率について公開しています。
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